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Halbleiter Quarz

Plasmakammer HSP Quarz UGR Ring für 12" Wafer ICP Trockenratzeinrichtungen

Quarz End Effektor Klinge für 300 mm Wafer in Ätzer Ausrüstung für Trockenplasma Ätzer Prozess

Quarz-Sleeve-Feuerpoliert mit hoher Reinheit zur Übertragung von Wasserstoff und Sauerstoff in STRIP-Ausrüstung

Hochreine Quarz-Abdeckung, die Waferkanten schützt, Verunreinigung beim einheitlichen Trockenplasma-Etschverfahren verhindert

Halbleiter Quarz beweglicher Ring, der Schutz, Stabilität und Reinheit der Waferoberfläche für das Hochtemperatur-Plasma-Etschen bietet

12 Zoll Abdeckung, Quarz-Klammerring, 300 mm W/O/Loch für CCP Trockenplasma-Essgeräte

optischer Quarz

Gepolsterte Quarzfenster mit runden Ecken und matten Kanten

Halbleiter-CVD-Fusionsquarzfenster Hitzebeständiges Quarzoptisches Fenster

Mechanisch polierter runder Quarz, Glasfenster, Halbleiter, Quarz

High Transmission Observation Quarz Fenster Ultra Reinheit geschmolzenen Siliziumquarz

Quarzfenster mit hoher Transparenz für Halbleiter-Wafer-Verarbeitungsausrüstung

Quarz-Rohstoff

PQ161E Quarzplatte Halbleiter hoher Reinheit Quarz Rohstoff

Naturquarzzylinder hoher Reinheit für Halbleiter- und High-End-Optikindustrie

Fotomaske

6x6 Zoll synthetische Quarzfotomaske für Halbleiterlithographie

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Nr. 68, Jiqing Road, Nantong Wirtschafts- und Technologieentwicklungszone, Provinz Jiangsu
Telefone: +8618964035085
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