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가스 분배 석영 샤워 헤드 TF-013 340mm 고순도 천공판
| MOQ: | 5개 또는 협상 가능 |
| 가격: | FOB Shanghai |
| standard packaging: | 깨끗한 플라스틱 밀봉 백 + 파란색 골판지 상자 + 마스터 상자 |
| Delivery period: | 30-45일 |
| 결제 방법: | L/C,D/A,D/P,T/T |
| Supply Capacity: | 월 1000개 이상 |
상세 정보
원래 장소
중국
브랜드 이름
JC
인증
MSDS, RoHS, REACH, ISO, GS, BV, Intertek
모델 번호
TF-013
제품명:
석영판 샤워헤드 MOZ03
모델 번호:
TF-013
사양:
Φ340×4.5Tmm
판 두께:
4.5T
재료:
GE, HSQ, PQ 또는 기타 지정된 석영 재료
청소:
클래스 100 화학 세척
애플리케이션:
반도체박막 및 플라즈마 장비의 화학가스 유통
원래 장소:
중국
브랜드 이름:
JC
인증:
MSDS, RoHS, REACH, ISO, GS, BV, Intertek
강조하다:
가스 분배 석영 샤워헤드
,천공 고순도 석영판
,클래스 100 화학 세척
제품 설명
가스 분배 석영 샤워헤드 TF-013
는 반도체 박막 및 플라즈마 공정 챔버 전반에 걸쳐 균일하고 오염 없는 화학 공정 가스 분배를 제공하도록 설계된 천공된 고순도 석영 플레이트입니다. GE, HSQ 또는 PQ 석영 재료로 가공되고 클래스 100 표준으로 세척되어 일관된 가스 흐름, 최소한의 입자 생성 및 까다로운 팹 환경에서 긴 서비스 수명을 보장합니다.주요 특징균일한 화학 가스 분배를 위한 천공된 고순도 석영 플레이트
정밀 가공 Φ340 × 4.5T mm 샤워헤드 프로파일
- GE, HSQ, PQ 또는 기타 지정된 석영 재료로 제공
- 낮은 입자 및 금속 오염을 위한 클래스 100 화학 세척
- 우수한 열 안정성 및 고순도 SiO2 조성
- 요청 시 맞춤형 천공 패턴 및 치수 사용 가능
- 사양
- 모델 번호
TF-013
| 제품명 | 석영 플레이트 샤워헤드 MOZ03 |
| 사양 | Φ340 × 4.5T mm |
| 재질 | GE, HSQ, PQ 또는 기타 지정된 석영 재료 |
| 세척 | 클래스 100 화학 세척 |
| 원산지 | 중국 |
| 브랜드명 | JC |
| 인증 | MSDS, RoHS, REACH, ISO, GS, BV, Intertek |
| 응용 분야 | 반도체 박막 증착 장비 |
플라즈마 에칭 및 CVD 가스 분배 어셈블리
- 확산 및 산화 공정 챔버
- 웨이퍼 처리 도구용 화학 가스 샤워헤드
- 포장 및 주문
- MOQ:
5개 또는 협의 가능
- 가격: FOB 상하이
- 결제: L/C, D/A, D/P, T/T
- 공급 능력: 월 1000개 이상
- 배송 시간: 30-45일
- 포장: 깨끗한 플라스틱 밀봉 백 + 파란색 골판지 상자 + 마스터 카톤
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