Entdecken Sie, wie hochreine geschweißte Quarzkammern eine präzise HF-Plasmaerzeugung für ICP- und CCP-Ätzgeräte in der Halbleiterfertigung ermöglichen. Dieses Video bietet einen detaillierten Überblick über die Herstellung, Materialauswahl und Qualitätskontrollprozesse von Quarzkammern, zeigt reale Anwendungen in DRIE-Systemen (Deep Reactive Ion Etching) und erklärt, wie das richtige Kammerdesign Kontaminationen verhindert und gleichzeitig die Plasmastabilität aufrechterhält.