เซมิคอนดักเตอร์ควอตซ์สังเคราะห์วัสดุได้กลายเป็นอินพุตเกตสำหรับการพิมพ์หิน 193 นาโนเมตร และเกรด ZTSQ-02 จาก NTCM (ZTT Group) ได้รับการระบุเทียบกับตัวเลขที่สำคัญจริงๆ: SiO2ความบริสุทธิ์สูงกว่า 99.99 %, การหักเหของความเครียดจาก ≤2 นาโนเมตร/ซม. ในเกรด A ถึง ≤10 นาโนเมตร/ซม. ในเกรด D และไม่มีริ้วในทิศทางเดียว ได้รับการตรวจสอบทั้งหมดต่อล็อต วัสดุนี้สร้างขึ้นจากฝีมือมนุษย์ ซึ่งเติบโตจากสารตั้งต้นที่มีซิลิคอนแทนที่จะละลายจากแร่แร่ ดังนั้นจึงไม่มีลายเซ็นของอะลูมิเนียม เหล็ก หรืออัลคาไลที่ควอตซ์ธรรมชาตินำมาด้วย และตัวอักษรเกรดแทนที่จะเป็นพาดหัวเรื่องความบริสุทธิ์จะตัดสินว่าเส้นทางแสงใดที่ช่องว่างจะให้บริการได้ โดยจัดส่งเป็นแท่งและบล็อกสำหรับพื้นผิวโฟโตมาสก์ ชิ้นเลนส์ DUV หน้าต่างเอ็กไซเมอร์ และเลนส์มาตรวิทยา โดยมีคำสั่งซื้อขั้นต่ำ 20 กก. กำลังการผลิต 200 เมตริกตันต่อเดือน การจัดส่งภายใน 30–45 วันตามเงื่อนไข FOB เซี่ยงไฮ้ และเอกสารประกอบไปยัง MSDS, RoHS, REACH, ISO, GS, BV และ Intertek
ควอตซ์สังเคราะห์เป็นซิลิคอนไดออกไซด์อสัณฐานที่เกิดจากการสะสมทางเคมีมากกว่าการหลอมหิน เส้นทางอุตสาหกรรมที่โดดเด่นคือการไฮโดรไลซิสด้วยเปลวไฟ: ไอซิลิคอนเตตระคลอไรด์ (SiCl4) จะถูกป้อนเข้าไปในเปลวไฟออกซีไฮโดรเจน ซึ่งจะทำปฏิกิริยากับน้ำเพื่อสร้าง SiO2อนุภาคที่สะสมตัวเป็นเขม่าที่มีรูพรุน จากนั้นเขม่านั้นจะถูกทำให้กลายเป็นแก้วที่อุณหภูมิประมาณ 1,700–1,800 °C ให้เป็นแก้วใสที่มีความหนาแน่นสูง การสะสมไอสารเคมีในพลาสมาและเส้นทางโซล-เจลมีอยู่เคียงข้างกัน และก่อให้เกิดตัวแปรที่มีระดับไฮดรอกซิลต่างกัน แต่หลักการเหมือนกันในทุกประการ นั่นคือ ซิลิคอนมาถึงในรูปของก๊าซหรือของเหลวบริสุทธิ์ ไม่ใช่แร่ ดังนั้น รูปแบบการปนเปื้อนจึงถูกกำหนดโดยเคมี ไม่ใช่ธรณีวิทยา
ความแตกต่างนั้นเป็นข้อโต้แย้งทางการค้าทั้งหมด ควอตซ์ธรรมชาติสืบทอดอะลูมิเนียม โซเดียม โพแทสเซียม ลิเธียม เหล็ก และไทเทเนียมจากแร่ที่ระดับส่วนต่อล้านส่วน และการทำให้บริสุทธิ์จะลดลงแทนที่จะกำจัดออกไป วัสดุสังเคราะห์เริ่มต้นด้วยสารตั้งต้นที่กลั่น ดังนั้นปริมาณโลหะที่ตกค้างจึงมีขนาดต่ำกว่า และการไม่มีแร่ธาตุรวมอยู่ด้วย หมายความว่าร่างกายไม่มีฟองอากาศและไม่มีเมล็ดอนุภาค สำหรับการส่งผ่านรังสีอัลตราไวโอเลตระดับลึก สิ่งนี้ถือเป็นการตัดสินใจเด็ดขาด: ที่ 193 นาโนเมตร เหล็กระดับ ppm หรือการรวมเพียงครั้งเดียวก็เพียงพอที่จะดูดซับพลังงาน สร้างจุดศูนย์กลางสี และทำให้ระบบการมองเห็นเสียหายในที่สุด
ข้อมูลจำเพาะสี่ประการกำหนดเกรดควอตซ์สังเคราะห์ความบริสุทธิ์ระบุเป็น SiO2เนื้อหา — 99.99 % และสูงกว่าสำหรับตระกูล ZTSQ-02การสะท้อนกลับของความเครียดซึ่งเป็นลักษณะเฉพาะของโฟโตอีลาสติกของความเค้นภายในที่ตกค้าง รายงานเป็นนาโนเมตรต่อเซนติเมตร: รังสีแสงที่ส่องผ่านกระจกที่มีความเครียดจะแยกออกเป็นสององค์ประกอบโดยมีความแตกต่างของเส้นทาง Δn·t และตัวอักษรเกรดเป็นเพียงเพดาน เกรด A รองรับ ≤2 นาโนเมตร/ซม., B ≤5, C ≤5, D ≤10ริ้วหรือ striae — การแปรผันของดัชนีการหักเหของแสงแบบชั้นที่เหลือจากกระบวนการสะสม ซึ่ง ZTSQ-02 ควบคุมไม่ให้มีริ้วในทิศทางเดียว และการแพร่เชื้อวัดต่อล็อตผ่านแถบความยาวคลื่นที่ใช้งานและวิกฤตที่ 193 นาโนเมตรและ 248 นาโนเมตร
เมื่ออ่านด้วยกัน ตัวเลขทั้งสี่นี้อธิบายถึงความเป็นเนื้อเดียวกันของแสง: วัสดุจะโค้งงอ แตกตัว หรือดูดซับแสงที่ไม่ควรสัมผัสได้มากเพียงใด นั่นคือเหตุผลที่ตัวอักษรเกรด ไม่ใช่ตัวเลขความบริสุทธิ์ มักจะเป็นตัวตัดสินว่าควอตซ์สังเคราะห์ชนิดใดที่ลูกค้าการพิมพ์หินสามารถใช้ได้
| คุณสมบัติ | ค่า | ทำไมมันถึงสำคัญ |
|---|---|---|
| SiO2ความบริสุทธิ์ | 99.9999 % (6N) | งบประมาณการปนเปื้อนของโลหะสำหรับการประมวลผลแผ่นเวเฟอร์ |
| ความหนาแน่น | 2.2 ก./ซม.³ | ความสม่ำเสมอของล็อตและการระบุวัสดุ |
| ค่าการนำความร้อน (1,000 °C) | 2.28 วัตต์/เมตร·เค | การไล่ระดับความร้อนที่ราบเรียบยิ่งขึ้น ความเครียดจากแรงกระแทกที่ลดลง |
| ค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวเนื่องจากความร้อน | 5.5 × 10-7/°ซ | ทนต่อแรงกระแทกจากความร้อน ความเสถียรของมิติ |
| จุดอ่อนตัว | 1,670 องศาเซลเซียส | อุณหภูมิการดึง/ขึ้นรูปท่อ |
| จุดหลอมเหลว | 1,210 องศาเซลเซียส | คลายเครียดหลังการตัดเฉือน |
| จุดความเครียด | 1,110 องศาเซลเซียส | เพดานที่ใช้งานได้จริงเพื่อความมั่นคงของมิติ |
| ขั้นต่ำ / ความจุ | 50 กก. / 2,000 ตันต่อเดือน | นักบินสร้างทางลาดปรับระดับเสียง |
| การจัดส่ง / เงื่อนไข | 30–45 วัน FOB เซี่ยงไฮ้ | L/C, D/A, D/P, T/T |
ผู้ซื้อมาถึงข้อมูลจำเพาะสังเคราะห์เนื่องจากมีบางสิ่งในเส้นทางแสงของพวกเขาหมดระยะขอบ โหมดความล้มเหลวสี่โหมดเกิดขึ้นซ้ำ และแต่ละโหมดจะแมปกับคุณสมบัติของแก้ว
1. การดูดซับและแสงอาทิตย์ที่ 193 นาโนเมตรโฟตอนที่พิมพ์หิน DUV มีพลังงาน 6.4 eV ซึ่งเพียงพอที่จะทำลายพันธะและกระตุ้นโลหะปริมาณเล็กน้อย ตัวเรือนควอตซ์ธรรมชาติที่มีเหล็กไม่กี่ ppm ดูดซับที่ส่วนท้ายของสาย ให้ความร้อนเฉพาะจุดและก่อตัวเป็นศูนย์สี การส่งผ่านลดลงตลอดอายุของใยแก้วนำแสง วัสดุสังเคราะห์ที่ไม่มีโลหะจากแร่มีขอบการดูดซับที่สะอาดกว่ามาก ซึ่งเป็นเหตุผลว่าทำไมโฟโตมาสก์ ArF ทุกอันจึงเริ่มต้นจากซับสเตรตสังเคราะห์มากกว่าซับสเตรตตามธรรมชาติ สำหรับใครก็ตามที่กำลังมองหาควอตซ์สังเคราะห์สำหรับพื้นผิวโฟโตมาสก์แหล่งที่มา นี่คือการทดสอบคุณสมบัติที่ตัดสินสัญญา
2. งบประมาณโพลาไรซ์ในเลนส์ฉายภาพการสะท้อนกลับของความเครียดไม่เพียงแต่ทำให้หน้าคลื่นเบลอเท่านั้น โดยจะหมุนและชะลอการเกิดโพลาไรเซชัน และเครื่องสแกนสมัยใหม่จะควบคุมโพลาไรเซชันของการส่องสว่างอย่างแม่นยำเพื่อปรับปรุงคอนทราสต์ของภาพ ชิ้นเลนส์ที่ 10 นาโนเมตร/ซม. มีส่วนทำให้เกิดการหน่วงซึ่งตัวเพิ่มประสิทธิภาพการส่องสว่างไม่สามารถชดเชยได้ มีเกรด A ที่ ≤2 นาโนเมตร/ซม. เนื่องจากการออกแบบเชิงแสงถือว่าเป็นเช่นนั้น การระบุเกรดมีราคาถูกกว่าการออกแบบตัวชดเชยใหม่
3. ความสม่ำเสมอของการถ่ายภาพและลายเส้นแก้วที่ปลูกทับถมสามารถพกพาความแปรผันของดัชนีแบบชั้นละเอียด — striae — ที่พิมพ์เป็นความถี่ต่ำไม่สม่ำเสมอทั่วทั้งสนาม ข้อความว่า "ไม่มีริ้วในทิศทางเดียว" เป็นคำยืนยันของซัพพลายเออร์ว่าตัวเครื่องสามารถใช้งานได้ในทิศทางที่ต้องการ และอยู่ในข้อกำหนดเฉพาะในการซื้อ ไม่ใช่แค่ในโบรชัวร์ สำหรับกซิลิกาผสมเป็นเนื้อเดียวกันสูงข้อกำหนด ลายเส้น และไบรีฟริงเจนซ์เป็นการวัดสองแบบที่แยกเกรดจริงออกจากเกรดการตลาด
4. ความเสี่ยงด้านอุปทานของควอตซ์ธรรมชาติควอตซ์ธรรมชาติเกรดเซมิคอนดักเตอร์อาศัยแร่จำนวนเล็กน้อยที่มีคุณสมบัติทางเคมีสม่ำเสมอ และสายโซ่นั้นจะรัดแน่นเมื่อใดก็ตามที่ความต้องการเพิ่มขึ้น กำลังการผลิตสังเคราะห์นั้นต้องใช้เงินทุนมากแต่ไม่ขึ้นอยู่กับวัตถุดิบตั้งต้น โดยจะปรับขนาดตามเครื่องปฏิกรณ์ ไม่ใช่กับเหมือง กำลังการผลิต 200 เมตริกตันต่อเดือน คำสั่งซื้อขั้นต่ำ 20 กก. ที่รองรับการสร้าง NPI การส่งมอบ 30–45 วัน และเส้นทางการรับรองหกเส้นทาง (MSDS, RoHS, REACH, ISO, GS, BV, Intertek) ทำให้เส้นทางสังเคราะห์เป็นแหล่งที่สองที่ใช้งานได้จริง แทนที่จะเป็นความอยากรู้อยากเห็นในห้องปฏิบัติการ การเปรียบเทียบผู้ซื้อราคาซิลิกาสังเคราะห์ต่อกิโลกรัมเทียบกับต้นทุนของการพิมพ์หินที่ล้มเหลว ล็อตไม่ค่อยพบการปิดทางคณิตศาสตร์
ผลประโยชน์ข้างเคียงคือเอกสารประกอบ แต่ละล็อตสามารถกำหนดลักษณะเฉพาะได้ด้วยวิธีแสงและเคมีแบบเดียวกับที่ลูกค้าใช้ ดังนั้นการตรวจสอบที่เข้ามาจึงเป็นขั้นตอนการตรวจสอบมากกว่าการกระทำที่น่าเชื่อถือ ตั้งแต่โฟโตมาสก์แบลงค์และหน้าต่าง excimer ไปจนถึงออพติคตรวจสอบเวเฟอร์และแฟลตอ้างอิง
ควอตซ์สังเคราะห์นั้นหาซื้อได้ง่ายและไม่ยอมให้อภัยหากระบุไม่ดี ลำดับด้านล่างคือวิธีที่วัสดุเคลื่อนย้ายจากบล็อก ZTSQ-02 ไปยังส่วนประกอบทางแสงที่ผ่านการรับรอง โดยมีพารามิเตอร์ที่อยู่ในใบสั่งซื้อ
เกรดเป็นไปตามความยาวคลื่นและเรขาคณิต วัสดุพิมพ์โฟโตมาสก์ 193 นาโนเมตรในเครื่องสแกนที่มีการควบคุมโพลาไรเซชันต้องใช้เกรด A (≤2 นาโนเมตร/ซม.) และการวัดการส่งผ่านที่ความยาวคลื่นทำงาน ช่องเอ็กไซเมอร์ 248 นาโนเมตรในเลเซอร์อุตสาหกรรมมักจะยอมรับเกรด B หรือ C ได้ โดยที่ ≤5 นาโนเมตร/ซม. เพียงพอเนื่องจากลำแสงไม่ได้สร้างภาพ แฟลตอ้างอิงมาตรวิทยาอาจใช้เกรด D ที่ ≤10 นาโนเมตร/ซม. การเขียนอักษรระบุเกรดและวิธีการวัดลงในข้อกำหนดจะช่วยป้องกันความขัดแย้งแบบคลาสสิกที่ซัพพลายเออร์และลูกค้าต่างเชื่อว่าตนจัดส่งหรือซื้อวัสดุ "มาตรฐาน"
ZTSQ-02 มีจำหน่ายในรูปแบบแท่งและบล็อก พื้นผิวที่เสร็จแล้วจะถูกตัด กราวด์ ขัดและขัดเงา ระบุความหนา ความเรียบ คุณภาพพื้นผิว และเนื้อวัสดุที่คุณต้องการขจัดออกในแต่ละการปฏิบัติงาน การรีฟริงเจนต์ของความเครียดเป็นคุณสมบัติที่เป็นกลุ่ม ดังนั้นช่องว่างที่มีความเค้นตกค้างมากเกินไปจึงไม่สามารถขจัดปัญหาออกไปได้ แต่การบดตามลำดับที่ไม่ดีสามารถเพิ่มเข้าไปได้ ขั้นตอนการหลอมและการบรรเทาความเครียดระหว่างการเจียรหยาบและการเจียรละเอียดคือสิ่งที่ทำให้ตัวเลขที่ส่งมอบอยู่ภายในเกรด
การวัดสี่ครั้งมีคุณสมบัติ การรีฟริงเจนซ์โดยโพลาริมิเตอร์หรือการทำแผนที่โพลาไรเซอร์แบบไขว้ รายงานเป็นค่าสูงสุดและการกระจายผ่านรูรับแสงที่ชัดเจน ไม่ใช่ค่าจุดเดียว การส่งผ่านด้วยสเปกโตรโฟโตมิเตอร์ที่ความยาว 190–250 นาโนเมตร อ้างอิงถึงเส้นฐานของลูกค้า Striae โดย shadowgraph หรือการตรวจสอบสนามมืดในทิศทางการใช้งาน ติดตามโลหะด้วย ICP-MS แบบทีละองค์ประกอบ — ตัวเลขความบริสุทธิ์ทั้งหมดจะซ่อนองค์ประกอบที่สำคัญที่ DUV ไว้อย่างชัดเจน ขอข้อมูลดิบ ไม่ใช่การประทับตราผ่าน
การไหลมาตรฐานคือการกัดด้วยกรดหรือ HF ที่มีการควบคุม โดยการออกแบบสามารถทำได้ โดยล้างด้วยน้ำที่ปราศจากไอออนจนเหลือ 18.2 MΩ·cm จากนั้นจึงกรองไนโตรเจนให้แห้ง การบรรจุเพื่อการขนส่งคือถุงพลาสติกปิดผนึกที่สะอาดภายในกล่องหลักภายในลังไม้ ซึ่งเป็นลำดับเดียวกับที่ใช้สำหรับแพ็คมาตรฐานขนาด 20 กก. สิ่งใดที่ถูกสัมผัสหลังจากทำความสะอาดจะต้องทำความสะอาดอีกครั้ง เลนส์ที่ได้รับการจัดการในพื้นที่ที่ไม่ใช่ห้องปลอดเชื้อจะเกิดการปนเปื้อนที่ได้รับการปกป้อง
ในโฟโตมาสก์แบลงค์ สารตั้งต้นสังเคราะห์จะเป็นรากฐานทางกลและทางแสงสำหรับชั้นตัวดูดซับ ดังนั้นความเรียบและการเกิดแสงสะท้อนสองทางจึงแพร่กระจายโดยตรงไปสู่การซ้อนทับและมิติที่สำคัญ ในเลนส์ฉายภาพ DUV ชิ้นเลนส์จะเรียงซ้อนกันเป็นกลุ่มโดยที่การหน่วงของแต่ละพื้นผิวเพิ่มเข้ามา ช่องว่างเกรด A ที่ด้านหน้าของกองซื้อส่วนต่างสำหรับการประกอบทั้งหมด ในหน้าต่างเลเซอร์เอ็กไซเมอร์ ข้อกำหนดคือการดูดซับบวกความต้านทานความเสียหายที่ 193 หรือ 248 นาโนเมตรภายใต้การไหลแบบพัลซ์ ในการตรวจสอบแผ่นเวเฟอร์และมาตรวิทยา ค่าแบนราบที่มีการสะท้อนกลับต่ำจะกำหนดว่าการวัดแบบไวต่อเฟสนั้นมีอยู่จริงหรือไม่ ในแต่ละกรณีบล็อกเดียวกัน เกรดและการตกแต่งต่างกัน
ควอตซ์สังเคราะห์เป็นวัสดุที่ป้อนซ้ำ ไม่ใช่ครั้งเดียว ด้วยกำลังการผลิต 200 เมตริกตันต่อเดือน คำสั่งซื้อขั้นต่ำ 20 กิโลกรัม และการจัดส่งภายใน 30–45 วันตามเงื่อนไข FOB เซี่ยงไฮ้ แบบจำลองที่สามารถใช้งานได้นั้นเป็นการคาดการณ์แบบกลิ้งโดยมีปริมาณบัฟเฟอร์บัฟเฟอร์ตามรอบการขัดเงา L/C, D/A, D/P และ T/T ครอบคลุมตั้งแต่คำสั่งซื้อตัวอย่าง NPI ไปจนถึงข้อตกลงรายปี ส่งภาพวาด ความยาวคลื่น และตัวอักษรเกรด แล้วตามด้วยใบเสนอราคาโดยไม่มีการชี้แจงอีกรอบ
ควอตซ์สังเคราะห์คือ SiO2เติบโตจากสารตั้งต้นของซิลิคอนบริสุทธิ์ - โดยทั่วไปโดยการไฮโดรไลซิสด้วยเปลวไฟของ SiCl4- แล้วเทใส่แก้ว ควอตซ์ธรรมชาติละลายจากแร่แร่ เส้นทางสังเคราะห์ไม่มีอะลูมิเนียม เหล็ก หรืออัลคาไลที่ได้มาจากแร่ ไม่ก่อให้เกิดการรวมตัวของแร่ธาตุ และให้ความสม่ำเสมอทางแสงที่เข้มงวดมากขึ้น ซึ่งเป็นสาเหตุที่การพิมพ์หิน DUV ใช้เส้นทางดังกล่าว
เกรดนี้เป็นเพดานของการสลายตัวของไบรีฟริงก์จากความเค้นตกค้างที่วัดเป็นนาโนเมตรต่อเซนติเมตรของเส้นทาง: เกรด A ≤2 นาโนเมตร/ซม., เกรด B ≤5, เกรด C ≤5, เกรด D ≤10 บนแผ่นข้อมูล ZTSQ-02 ค่าที่ต่ำกว่ามีความสำคัญสำหรับการสร้างภาพที่ไวต่อโพลาไรเซชัน โดยปกติแล้วจะระบุเกรด A สำหรับซับสเตรตโฟโตมาสก์ 193 นาโนเมตรและองค์ประกอบเลนส์ฉายภาพ
ริ้วหรือ striae คือการเปลี่ยนแปลงดัชนีการหักเหของแสงแบบชั้นที่เหลือจากกระบวนการสะสม โดยจะพิมพ์ออกมาโดยมีความถี่ต่ำไม่สม่ำเสมอทั่วทั้งสนามการถ่ายภาพ และไม่สามารถแก้ไขได้ด้วยการขัดเงา ข้อความระบุว่าไม่มีริ้วในทิศทางการใช้งานเป็นการยืนยันว่าตัวกล้องสามารถใช้งานได้ในลักษณะนั้น และอยู่ในข้อกำหนดการซื้อมากกว่าในโบรชัวร์
ปริมาณการสั่งซื้อขั้นต่ำคือ 20 กก. ซึ่งครอบคลุมงานสร้างทางวิศวกรรมและ NPI การจัดส่งใช้เวลา 30–45 วันตามเงื่อนไข FOB เซี่ยงไฮ้ โดยยอมรับ L/C, D/A, D/P และ T/T กำลังการผลิตต่อเดือนอยู่ที่ 200 เมตริกตัน ดังนั้นการปรับขนาดหลังการรับรองจึงไม่จำเป็นต้องมีห่วงโซ่อุปทานใหม่หรือรอบการรับรองใหม่ ขอตารางการจัดส่งที่จะออกพร้อมกับใบเสนอราคา
ระบุ SiO2มากกว่า 99.99 % โดยมีโลหะปริมาณน้อยที่รายงานทีละองค์ประกอบโดย ICP-MS รวมถึงข้อมูลล็อตสำหรับการรีฟริงเจนซ์ ลายเส้น และการส่งผ่าน ZTSQ-02 จัดส่งเอกสารตามมาตรฐาน MSDS, RoHS, REACH, ISO, GS, BV และ Intertek พร้อมใบรับรองระดับล็อต นี่คือชุดที่การตรวจสอบการพิมพ์หินและทัศนศาสตร์ส่วนใหญ่ร้องขอ
ZTSQ-02 มีจำหน่ายในรูปแบบแท่งและบล็อก และพื้นผิวที่เสร็จแล้วจะถูกตัด กราวด์ และขัดเงา ส่งแบบที่เสร็จแล้วด้วยความเรียบ ความหนา และคุณภาพพื้นผิว แล้วเราจะยืนยันว่าเกรดและขนาดว่างใดที่จะคงคุณสมบัติไว้หลังจากการขัดเงา รวมถึงขั้นตอนการบรรเทาความเครียดที่จำเป็นระหว่างการเจียร การจัดหาชิ้นส่วนสำเร็จรูปจะเสนอราคาต่อรูปวาด
ควอตซ์สังเคราะห์ไม่ใช่ควอตซ์ธรรมชาติรุ่นพรีเมี่ยม มันเป็นวัสดุที่แตกต่างกับฟิสิกส์การปนเปื้อนที่แตกต่างกัน ความบริสุทธิ์ที่สูงกว่า 99.99 % การหักเหของความเครียดที่ควบคุมได้ และไม่มีริ้วในทิศทางการใช้งานคือสิ่งที่ช่วยให้เส้นทางแสง 193 นาโนเมตรสามารถประหยัดงบประมาณโพลาไรเซชันและการส่งสัญญาณตลอดอายุการใช้งานการผลิต ร่างกายตามธรรมชาติที่มีธาตุเหล็กระดับ ppm จะดูดซับและทำให้แสงอาทิตย์เพิ่มขึ้น ตัววัตถุที่ 10 นาโนเมตร/ซม. จะชะลอโพลาไรเซชันที่เครื่องสแกนเพิ่งปรับให้เหมาะสม
ดังนั้นข้อกำหนดก็คือผลิตภัณฑ์ ระบุความยาวคลื่น เกรดและรูรับแสง และวัสดุว่าตรงตามนั้นหรือไม่ ซึ่งเป็นความชัดเจนที่โปรแกรมออพติคอลต้องการ
ZTSQ-02 ส่งมอบตัวเลขทั้งสามดังกล่าวด้วยจุดเริ่มต้น 20 กก. กำลังการผลิต 200 เมตริกตันต่อเดือน และการจัดส่ง 30–45 วันจาก FOB เซี่ยงไฮ้ขั้นตอนต่อไป:ส่งแบบวาด ความยาวคลื่นที่ใช้งาน และเกรดการหักเหของแสงตามต้องการ เราจะส่งคืนคำแนะนำวัสดุ ขนาดว่าง และใบเสนอราคา หรือดาวน์โหลดเอกสารข้อมูล ZTSQ-02 เพื่อเปรียบเทียบข้อกำหนดก่อนรอบคุณสมบัติถัดไปของคุณ
เซมิคอนดักเตอร์ควอตซ์สังเคราะห์วัสดุได้กลายเป็นอินพุตเกตสำหรับการพิมพ์หิน 193 นาโนเมตร และเกรด ZTSQ-02 จาก NTCM (ZTT Group) ได้รับการระบุเทียบกับตัวเลขที่สำคัญจริงๆ: SiO2ความบริสุทธิ์สูงกว่า 99.99 %, การหักเหของความเครียดจาก ≤2 นาโนเมตร/ซม. ในเกรด A ถึง ≤10 นาโนเมตร/ซม. ในเกรด D และไม่มีริ้วในทิศทางเดียว ได้รับการตรวจสอบทั้งหมดต่อล็อต วัสดุนี้สร้างขึ้นจากฝีมือมนุษย์ ซึ่งเติบโตจากสารตั้งต้นที่มีซิลิคอนแทนที่จะละลายจากแร่แร่ ดังนั้นจึงไม่มีลายเซ็นของอะลูมิเนียม เหล็ก หรืออัลคาไลที่ควอตซ์ธรรมชาตินำมาด้วย และตัวอักษรเกรดแทนที่จะเป็นพาดหัวเรื่องความบริสุทธิ์จะตัดสินว่าเส้นทางแสงใดที่ช่องว่างจะให้บริการได้ โดยจัดส่งเป็นแท่งและบล็อกสำหรับพื้นผิวโฟโตมาสก์ ชิ้นเลนส์ DUV หน้าต่างเอ็กไซเมอร์ และเลนส์มาตรวิทยา โดยมีคำสั่งซื้อขั้นต่ำ 20 กก. กำลังการผลิต 200 เมตริกตันต่อเดือน การจัดส่งภายใน 30–45 วันตามเงื่อนไข FOB เซี่ยงไฮ้ และเอกสารประกอบไปยัง MSDS, RoHS, REACH, ISO, GS, BV และ Intertek
ควอตซ์สังเคราะห์เป็นซิลิคอนไดออกไซด์อสัณฐานที่เกิดจากการสะสมทางเคมีมากกว่าการหลอมหิน เส้นทางอุตสาหกรรมที่โดดเด่นคือการไฮโดรไลซิสด้วยเปลวไฟ: ไอซิลิคอนเตตระคลอไรด์ (SiCl4) จะถูกป้อนเข้าไปในเปลวไฟออกซีไฮโดรเจน ซึ่งจะทำปฏิกิริยากับน้ำเพื่อสร้าง SiO2อนุภาคที่สะสมตัวเป็นเขม่าที่มีรูพรุน จากนั้นเขม่านั้นจะถูกทำให้กลายเป็นแก้วที่อุณหภูมิประมาณ 1,700–1,800 °C ให้เป็นแก้วใสที่มีความหนาแน่นสูง การสะสมไอสารเคมีในพลาสมาและเส้นทางโซล-เจลมีอยู่เคียงข้างกัน และก่อให้เกิดตัวแปรที่มีระดับไฮดรอกซิลต่างกัน แต่หลักการเหมือนกันในทุกประการ นั่นคือ ซิลิคอนมาถึงในรูปของก๊าซหรือของเหลวบริสุทธิ์ ไม่ใช่แร่ ดังนั้น รูปแบบการปนเปื้อนจึงถูกกำหนดโดยเคมี ไม่ใช่ธรณีวิทยา
ความแตกต่างนั้นเป็นข้อโต้แย้งทางการค้าทั้งหมด ควอตซ์ธรรมชาติสืบทอดอะลูมิเนียม โซเดียม โพแทสเซียม ลิเธียม เหล็ก และไทเทเนียมจากแร่ที่ระดับส่วนต่อล้านส่วน และการทำให้บริสุทธิ์จะลดลงแทนที่จะกำจัดออกไป วัสดุสังเคราะห์เริ่มต้นด้วยสารตั้งต้นที่กลั่น ดังนั้นปริมาณโลหะที่ตกค้างจึงมีขนาดต่ำกว่า และการไม่มีแร่ธาตุรวมอยู่ด้วย หมายความว่าร่างกายไม่มีฟองอากาศและไม่มีเมล็ดอนุภาค สำหรับการส่งผ่านรังสีอัลตราไวโอเลตระดับลึก สิ่งนี้ถือเป็นการตัดสินใจเด็ดขาด: ที่ 193 นาโนเมตร เหล็กระดับ ppm หรือการรวมเพียงครั้งเดียวก็เพียงพอที่จะดูดซับพลังงาน สร้างจุดศูนย์กลางสี และทำให้ระบบการมองเห็นเสียหายในที่สุด
ข้อมูลจำเพาะสี่ประการกำหนดเกรดควอตซ์สังเคราะห์ความบริสุทธิ์ระบุเป็น SiO2เนื้อหา — 99.99 % และสูงกว่าสำหรับตระกูล ZTSQ-02การสะท้อนกลับของความเครียดซึ่งเป็นลักษณะเฉพาะของโฟโตอีลาสติกของความเค้นภายในที่ตกค้าง รายงานเป็นนาโนเมตรต่อเซนติเมตร: รังสีแสงที่ส่องผ่านกระจกที่มีความเครียดจะแยกออกเป็นสององค์ประกอบโดยมีความแตกต่างของเส้นทาง Δn·t และตัวอักษรเกรดเป็นเพียงเพดาน เกรด A รองรับ ≤2 นาโนเมตร/ซม., B ≤5, C ≤5, D ≤10ริ้วหรือ striae — การแปรผันของดัชนีการหักเหของแสงแบบชั้นที่เหลือจากกระบวนการสะสม ซึ่ง ZTSQ-02 ควบคุมไม่ให้มีริ้วในทิศทางเดียว และการแพร่เชื้อวัดต่อล็อตผ่านแถบความยาวคลื่นที่ใช้งานและวิกฤตที่ 193 นาโนเมตรและ 248 นาโนเมตร
เมื่ออ่านด้วยกัน ตัวเลขทั้งสี่นี้อธิบายถึงความเป็นเนื้อเดียวกันของแสง: วัสดุจะโค้งงอ แตกตัว หรือดูดซับแสงที่ไม่ควรสัมผัสได้มากเพียงใด นั่นคือเหตุผลที่ตัวอักษรเกรด ไม่ใช่ตัวเลขความบริสุทธิ์ มักจะเป็นตัวตัดสินว่าควอตซ์สังเคราะห์ชนิดใดที่ลูกค้าการพิมพ์หินสามารถใช้ได้
| คุณสมบัติ | ค่า | ทำไมมันถึงสำคัญ |
|---|---|---|
| SiO2ความบริสุทธิ์ | 99.9999 % (6N) | งบประมาณการปนเปื้อนของโลหะสำหรับการประมวลผลแผ่นเวเฟอร์ |
| ความหนาแน่น | 2.2 ก./ซม.³ | ความสม่ำเสมอของล็อตและการระบุวัสดุ |
| ค่าการนำความร้อน (1,000 °C) | 2.28 วัตต์/เมตร·เค | การไล่ระดับความร้อนที่ราบเรียบยิ่งขึ้น ความเครียดจากแรงกระแทกที่ลดลง |
| ค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวเนื่องจากความร้อน | 5.5 × 10-7/°ซ | ทนต่อแรงกระแทกจากความร้อน ความเสถียรของมิติ |
| จุดอ่อนตัว | 1,670 องศาเซลเซียส | อุณหภูมิการดึง/ขึ้นรูปท่อ |
| จุดหลอมเหลว | 1,210 องศาเซลเซียส | คลายเครียดหลังการตัดเฉือน |
| จุดความเครียด | 1,110 องศาเซลเซียส | เพดานที่ใช้งานได้จริงเพื่อความมั่นคงของมิติ |
| ขั้นต่ำ / ความจุ | 50 กก. / 2,000 ตันต่อเดือน | นักบินสร้างทางลาดปรับระดับเสียง |
| การจัดส่ง / เงื่อนไข | 30–45 วัน FOB เซี่ยงไฮ้ | L/C, D/A, D/P, T/T |
ผู้ซื้อมาถึงข้อมูลจำเพาะสังเคราะห์เนื่องจากมีบางสิ่งในเส้นทางแสงของพวกเขาหมดระยะขอบ โหมดความล้มเหลวสี่โหมดเกิดขึ้นซ้ำ และแต่ละโหมดจะแมปกับคุณสมบัติของแก้ว
1. การดูดซับและแสงอาทิตย์ที่ 193 นาโนเมตรโฟตอนที่พิมพ์หิน DUV มีพลังงาน 6.4 eV ซึ่งเพียงพอที่จะทำลายพันธะและกระตุ้นโลหะปริมาณเล็กน้อย ตัวเรือนควอตซ์ธรรมชาติที่มีเหล็กไม่กี่ ppm ดูดซับที่ส่วนท้ายของสาย ให้ความร้อนเฉพาะจุดและก่อตัวเป็นศูนย์สี การส่งผ่านลดลงตลอดอายุของใยแก้วนำแสง วัสดุสังเคราะห์ที่ไม่มีโลหะจากแร่มีขอบการดูดซับที่สะอาดกว่ามาก ซึ่งเป็นเหตุผลว่าทำไมโฟโตมาสก์ ArF ทุกอันจึงเริ่มต้นจากซับสเตรตสังเคราะห์มากกว่าซับสเตรตตามธรรมชาติ สำหรับใครก็ตามที่กำลังมองหาควอตซ์สังเคราะห์สำหรับพื้นผิวโฟโตมาสก์แหล่งที่มา นี่คือการทดสอบคุณสมบัติที่ตัดสินสัญญา
2. งบประมาณโพลาไรซ์ในเลนส์ฉายภาพการสะท้อนกลับของความเครียดไม่เพียงแต่ทำให้หน้าคลื่นเบลอเท่านั้น โดยจะหมุนและชะลอการเกิดโพลาไรเซชัน และเครื่องสแกนสมัยใหม่จะควบคุมโพลาไรเซชันของการส่องสว่างอย่างแม่นยำเพื่อปรับปรุงคอนทราสต์ของภาพ ชิ้นเลนส์ที่ 10 นาโนเมตร/ซม. มีส่วนทำให้เกิดการหน่วงซึ่งตัวเพิ่มประสิทธิภาพการส่องสว่างไม่สามารถชดเชยได้ มีเกรด A ที่ ≤2 นาโนเมตร/ซม. เนื่องจากการออกแบบเชิงแสงถือว่าเป็นเช่นนั้น การระบุเกรดมีราคาถูกกว่าการออกแบบตัวชดเชยใหม่
3. ความสม่ำเสมอของการถ่ายภาพและลายเส้นแก้วที่ปลูกทับถมสามารถพกพาความแปรผันของดัชนีแบบชั้นละเอียด — striae — ที่พิมพ์เป็นความถี่ต่ำไม่สม่ำเสมอทั่วทั้งสนาม ข้อความว่า "ไม่มีริ้วในทิศทางเดียว" เป็นคำยืนยันของซัพพลายเออร์ว่าตัวเครื่องสามารถใช้งานได้ในทิศทางที่ต้องการ และอยู่ในข้อกำหนดเฉพาะในการซื้อ ไม่ใช่แค่ในโบรชัวร์ สำหรับกซิลิกาผสมเป็นเนื้อเดียวกันสูงข้อกำหนด ลายเส้น และไบรีฟริงเจนซ์เป็นการวัดสองแบบที่แยกเกรดจริงออกจากเกรดการตลาด
4. ความเสี่ยงด้านอุปทานของควอตซ์ธรรมชาติควอตซ์ธรรมชาติเกรดเซมิคอนดักเตอร์อาศัยแร่จำนวนเล็กน้อยที่มีคุณสมบัติทางเคมีสม่ำเสมอ และสายโซ่นั้นจะรัดแน่นเมื่อใดก็ตามที่ความต้องการเพิ่มขึ้น กำลังการผลิตสังเคราะห์นั้นต้องใช้เงินทุนมากแต่ไม่ขึ้นอยู่กับวัตถุดิบตั้งต้น โดยจะปรับขนาดตามเครื่องปฏิกรณ์ ไม่ใช่กับเหมือง กำลังการผลิต 200 เมตริกตันต่อเดือน คำสั่งซื้อขั้นต่ำ 20 กก. ที่รองรับการสร้าง NPI การส่งมอบ 30–45 วัน และเส้นทางการรับรองหกเส้นทาง (MSDS, RoHS, REACH, ISO, GS, BV, Intertek) ทำให้เส้นทางสังเคราะห์เป็นแหล่งที่สองที่ใช้งานได้จริง แทนที่จะเป็นความอยากรู้อยากเห็นในห้องปฏิบัติการ การเปรียบเทียบผู้ซื้อราคาซิลิกาสังเคราะห์ต่อกิโลกรัมเทียบกับต้นทุนของการพิมพ์หินที่ล้มเหลว ล็อตไม่ค่อยพบการปิดทางคณิตศาสตร์
ผลประโยชน์ข้างเคียงคือเอกสารประกอบ แต่ละล็อตสามารถกำหนดลักษณะเฉพาะได้ด้วยวิธีแสงและเคมีแบบเดียวกับที่ลูกค้าใช้ ดังนั้นการตรวจสอบที่เข้ามาจึงเป็นขั้นตอนการตรวจสอบมากกว่าการกระทำที่น่าเชื่อถือ ตั้งแต่โฟโตมาสก์แบลงค์และหน้าต่าง excimer ไปจนถึงออพติคตรวจสอบเวเฟอร์และแฟลตอ้างอิง
ควอตซ์สังเคราะห์นั้นหาซื้อได้ง่ายและไม่ยอมให้อภัยหากระบุไม่ดี ลำดับด้านล่างคือวิธีที่วัสดุเคลื่อนย้ายจากบล็อก ZTSQ-02 ไปยังส่วนประกอบทางแสงที่ผ่านการรับรอง โดยมีพารามิเตอร์ที่อยู่ในใบสั่งซื้อ
เกรดเป็นไปตามความยาวคลื่นและเรขาคณิต วัสดุพิมพ์โฟโตมาสก์ 193 นาโนเมตรในเครื่องสแกนที่มีการควบคุมโพลาไรเซชันต้องใช้เกรด A (≤2 นาโนเมตร/ซม.) และการวัดการส่งผ่านที่ความยาวคลื่นทำงาน ช่องเอ็กไซเมอร์ 248 นาโนเมตรในเลเซอร์อุตสาหกรรมมักจะยอมรับเกรด B หรือ C ได้ โดยที่ ≤5 นาโนเมตร/ซม. เพียงพอเนื่องจากลำแสงไม่ได้สร้างภาพ แฟลตอ้างอิงมาตรวิทยาอาจใช้เกรด D ที่ ≤10 นาโนเมตร/ซม. การเขียนอักษรระบุเกรดและวิธีการวัดลงในข้อกำหนดจะช่วยป้องกันความขัดแย้งแบบคลาสสิกที่ซัพพลายเออร์และลูกค้าต่างเชื่อว่าตนจัดส่งหรือซื้อวัสดุ "มาตรฐาน"
ZTSQ-02 มีจำหน่ายในรูปแบบแท่งและบล็อก พื้นผิวที่เสร็จแล้วจะถูกตัด กราวด์ ขัดและขัดเงา ระบุความหนา ความเรียบ คุณภาพพื้นผิว และเนื้อวัสดุที่คุณต้องการขจัดออกในแต่ละการปฏิบัติงาน การรีฟริงเจนต์ของความเครียดเป็นคุณสมบัติที่เป็นกลุ่ม ดังนั้นช่องว่างที่มีความเค้นตกค้างมากเกินไปจึงไม่สามารถขจัดปัญหาออกไปได้ แต่การบดตามลำดับที่ไม่ดีสามารถเพิ่มเข้าไปได้ ขั้นตอนการหลอมและการบรรเทาความเครียดระหว่างการเจียรหยาบและการเจียรละเอียดคือสิ่งที่ทำให้ตัวเลขที่ส่งมอบอยู่ภายในเกรด
การวัดสี่ครั้งมีคุณสมบัติ การรีฟริงเจนซ์โดยโพลาริมิเตอร์หรือการทำแผนที่โพลาไรเซอร์แบบไขว้ รายงานเป็นค่าสูงสุดและการกระจายผ่านรูรับแสงที่ชัดเจน ไม่ใช่ค่าจุดเดียว การส่งผ่านด้วยสเปกโตรโฟโตมิเตอร์ที่ความยาว 190–250 นาโนเมตร อ้างอิงถึงเส้นฐานของลูกค้า Striae โดย shadowgraph หรือการตรวจสอบสนามมืดในทิศทางการใช้งาน ติดตามโลหะด้วย ICP-MS แบบทีละองค์ประกอบ — ตัวเลขความบริสุทธิ์ทั้งหมดจะซ่อนองค์ประกอบที่สำคัญที่ DUV ไว้อย่างชัดเจน ขอข้อมูลดิบ ไม่ใช่การประทับตราผ่าน
การไหลมาตรฐานคือการกัดด้วยกรดหรือ HF ที่มีการควบคุม โดยการออกแบบสามารถทำได้ โดยล้างด้วยน้ำที่ปราศจากไอออนจนเหลือ 18.2 MΩ·cm จากนั้นจึงกรองไนโตรเจนให้แห้ง การบรรจุเพื่อการขนส่งคือถุงพลาสติกปิดผนึกที่สะอาดภายในกล่องหลักภายในลังไม้ ซึ่งเป็นลำดับเดียวกับที่ใช้สำหรับแพ็คมาตรฐานขนาด 20 กก. สิ่งใดที่ถูกสัมผัสหลังจากทำความสะอาดจะต้องทำความสะอาดอีกครั้ง เลนส์ที่ได้รับการจัดการในพื้นที่ที่ไม่ใช่ห้องปลอดเชื้อจะเกิดการปนเปื้อนที่ได้รับการปกป้อง
ในโฟโตมาสก์แบลงค์ สารตั้งต้นสังเคราะห์จะเป็นรากฐานทางกลและทางแสงสำหรับชั้นตัวดูดซับ ดังนั้นความเรียบและการเกิดแสงสะท้อนสองทางจึงแพร่กระจายโดยตรงไปสู่การซ้อนทับและมิติที่สำคัญ ในเลนส์ฉายภาพ DUV ชิ้นเลนส์จะเรียงซ้อนกันเป็นกลุ่มโดยที่การหน่วงของแต่ละพื้นผิวเพิ่มเข้ามา ช่องว่างเกรด A ที่ด้านหน้าของกองซื้อส่วนต่างสำหรับการประกอบทั้งหมด ในหน้าต่างเลเซอร์เอ็กไซเมอร์ ข้อกำหนดคือการดูดซับบวกความต้านทานความเสียหายที่ 193 หรือ 248 นาโนเมตรภายใต้การไหลแบบพัลซ์ ในการตรวจสอบแผ่นเวเฟอร์และมาตรวิทยา ค่าแบนราบที่มีการสะท้อนกลับต่ำจะกำหนดว่าการวัดแบบไวต่อเฟสนั้นมีอยู่จริงหรือไม่ ในแต่ละกรณีบล็อกเดียวกัน เกรดและการตกแต่งต่างกัน
ควอตซ์สังเคราะห์เป็นวัสดุที่ป้อนซ้ำ ไม่ใช่ครั้งเดียว ด้วยกำลังการผลิต 200 เมตริกตันต่อเดือน คำสั่งซื้อขั้นต่ำ 20 กิโลกรัม และการจัดส่งภายใน 30–45 วันตามเงื่อนไข FOB เซี่ยงไฮ้ แบบจำลองที่สามารถใช้งานได้นั้นเป็นการคาดการณ์แบบกลิ้งโดยมีปริมาณบัฟเฟอร์บัฟเฟอร์ตามรอบการขัดเงา L/C, D/A, D/P และ T/T ครอบคลุมตั้งแต่คำสั่งซื้อตัวอย่าง NPI ไปจนถึงข้อตกลงรายปี ส่งภาพวาด ความยาวคลื่น และตัวอักษรเกรด แล้วตามด้วยใบเสนอราคาโดยไม่มีการชี้แจงอีกรอบ
ควอตซ์สังเคราะห์คือ SiO2เติบโตจากสารตั้งต้นของซิลิคอนบริสุทธิ์ - โดยทั่วไปโดยการไฮโดรไลซิสด้วยเปลวไฟของ SiCl4- แล้วเทใส่แก้ว ควอตซ์ธรรมชาติละลายจากแร่แร่ เส้นทางสังเคราะห์ไม่มีอะลูมิเนียม เหล็ก หรืออัลคาไลที่ได้มาจากแร่ ไม่ก่อให้เกิดการรวมตัวของแร่ธาตุ และให้ความสม่ำเสมอทางแสงที่เข้มงวดมากขึ้น ซึ่งเป็นสาเหตุที่การพิมพ์หิน DUV ใช้เส้นทางดังกล่าว
เกรดนี้เป็นเพดานของการสลายตัวของไบรีฟริงก์จากความเค้นตกค้างที่วัดเป็นนาโนเมตรต่อเซนติเมตรของเส้นทาง: เกรด A ≤2 นาโนเมตร/ซม., เกรด B ≤5, เกรด C ≤5, เกรด D ≤10 บนแผ่นข้อมูล ZTSQ-02 ค่าที่ต่ำกว่ามีความสำคัญสำหรับการสร้างภาพที่ไวต่อโพลาไรเซชัน โดยปกติแล้วจะระบุเกรด A สำหรับซับสเตรตโฟโตมาสก์ 193 นาโนเมตรและองค์ประกอบเลนส์ฉายภาพ
ริ้วหรือ striae คือการเปลี่ยนแปลงดัชนีการหักเหของแสงแบบชั้นที่เหลือจากกระบวนการสะสม โดยจะพิมพ์ออกมาโดยมีความถี่ต่ำไม่สม่ำเสมอทั่วทั้งสนามการถ่ายภาพ และไม่สามารถแก้ไขได้ด้วยการขัดเงา ข้อความระบุว่าไม่มีริ้วในทิศทางการใช้งานเป็นการยืนยันว่าตัวกล้องสามารถใช้งานได้ในลักษณะนั้น และอยู่ในข้อกำหนดการซื้อมากกว่าในโบรชัวร์
ปริมาณการสั่งซื้อขั้นต่ำคือ 20 กก. ซึ่งครอบคลุมงานสร้างทางวิศวกรรมและ NPI การจัดส่งใช้เวลา 30–45 วันตามเงื่อนไข FOB เซี่ยงไฮ้ โดยยอมรับ L/C, D/A, D/P และ T/T กำลังการผลิตต่อเดือนอยู่ที่ 200 เมตริกตัน ดังนั้นการปรับขนาดหลังการรับรองจึงไม่จำเป็นต้องมีห่วงโซ่อุปทานใหม่หรือรอบการรับรองใหม่ ขอตารางการจัดส่งที่จะออกพร้อมกับใบเสนอราคา
ระบุ SiO2มากกว่า 99.99 % โดยมีโลหะปริมาณน้อยที่รายงานทีละองค์ประกอบโดย ICP-MS รวมถึงข้อมูลล็อตสำหรับการรีฟริงเจนซ์ ลายเส้น และการส่งผ่าน ZTSQ-02 จัดส่งเอกสารตามมาตรฐาน MSDS, RoHS, REACH, ISO, GS, BV และ Intertek พร้อมใบรับรองระดับล็อต นี่คือชุดที่การตรวจสอบการพิมพ์หินและทัศนศาสตร์ส่วนใหญ่ร้องขอ
ZTSQ-02 มีจำหน่ายในรูปแบบแท่งและบล็อก และพื้นผิวที่เสร็จแล้วจะถูกตัด กราวด์ และขัดเงา ส่งแบบที่เสร็จแล้วด้วยความเรียบ ความหนา และคุณภาพพื้นผิว แล้วเราจะยืนยันว่าเกรดและขนาดว่างใดที่จะคงคุณสมบัติไว้หลังจากการขัดเงา รวมถึงขั้นตอนการบรรเทาความเครียดที่จำเป็นระหว่างการเจียร การจัดหาชิ้นส่วนสำเร็จรูปจะเสนอราคาต่อรูปวาด
ควอตซ์สังเคราะห์ไม่ใช่ควอตซ์ธรรมชาติรุ่นพรีเมี่ยม มันเป็นวัสดุที่แตกต่างกับฟิสิกส์การปนเปื้อนที่แตกต่างกัน ความบริสุทธิ์ที่สูงกว่า 99.99 % การหักเหของความเครียดที่ควบคุมได้ และไม่มีริ้วในทิศทางการใช้งานคือสิ่งที่ช่วยให้เส้นทางแสง 193 นาโนเมตรสามารถประหยัดงบประมาณโพลาไรเซชันและการส่งสัญญาณตลอดอายุการใช้งานการผลิต ร่างกายตามธรรมชาติที่มีธาตุเหล็กระดับ ppm จะดูดซับและทำให้แสงอาทิตย์เพิ่มขึ้น ตัววัตถุที่ 10 นาโนเมตร/ซม. จะชะลอโพลาไรเซชันที่เครื่องสแกนเพิ่งปรับให้เหมาะสม
ดังนั้นข้อกำหนดก็คือผลิตภัณฑ์ ระบุความยาวคลื่น เกรดและรูรับแสง และวัสดุว่าตรงตามนั้นหรือไม่ ซึ่งเป็นความชัดเจนที่โปรแกรมออพติคอลต้องการ
ZTSQ-02 ส่งมอบตัวเลขทั้งสามดังกล่าวด้วยจุดเริ่มต้น 20 กก. กำลังการผลิต 200 เมตริกตันต่อเดือน และการจัดส่ง 30–45 วันจาก FOB เซี่ยงไฮ้ขั้นตอนต่อไป:ส่งแบบวาด ความยาวคลื่นที่ใช้งาน และเกรดการหักเหของแสงตามต้องการ เราจะส่งคืนคำแนะนำวัสดุ ขนาดว่าง และใบเสนอราคา หรือดาวน์โหลดเอกสารข้อมูล ZTSQ-02 เพื่อเปรียบเทียบข้อกำหนดก่อนรอบคุณสมบัติถัดไปของคุณ
