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Ground Quartz Cover Ring 12 Inch CCP Plasma Etching Quartz Ring for Dry Etch
| MOQ: | 30 ch. ou négociable |
| Prix: | FOB Shanghai |
| Standard Packaging: | Sac de scellage en plastique propre + boîte en carton ondulé bleue + carton principal |
| Delivery Period: | 30-45 jours |
| Méthode De Paiement: | T/T, L/C, D/A, D/P |
| Supply Capacity: | 1000 unités par mois |
Les informations détaillées
Lieu d'origine
Nantong, Jiangsu, porcelaine
Nom de marque
JC
Certification
MSDS, Rohs, REACH, ISO, GS, BV, Intertek
Numéro de modèle
ETCH-047
Spécification:
Φ420 × Φ380 × 8,0 mm
Matériel:
Quartz fondu synthétique de haute pureté
Tolérance:
±0,01 mm
Traitement de surface:
Poli au sol et au feu
Nettoyage:
Nettoyage chimique classe 100
Application:
Chambre de gravure au plasma sec CCP de 12 pouces
Mettre en évidence:
Synthetic Fused Quartz Ring
,12 Inch CCP Cover Ring
,Plasma Etching Quartz Ring
Description de produit
This Ground Quartz Cover Ring is a high purity synthetic quartz plasma etching quartz ring built for 12 inch CCP dry plasma etching equipment. Positioned at the wafer perimeter, the ring confines the plasma sheath, shields the chamber edge and protects the wafer from edge erosion during long, high power etch steps. Because it is machined from synthetic fused quartz rather than natural quartz, the ring offers an exceptionally low level of metallic and hydroxyl contamination,
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