Dettagli dei prodotti
Prodotti
Contattici
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Ground Quartz Cover Ring 12 Inch CCP Plasma Etching Quartz Ring for Dry Etch
| MOQ: | 30 ea o trattabili |
| Prezzo: | FOB Shanghai |
| standard packaging: | Busta sigillante in plastica pulita + scatola ondulata blu + cartone principale |
| Delivery period: | 30-45 giorni |
| Metodo di pagamento: | T/T,L/C,D/A,D/P |
| Supply Capacity: | 1000 al mese |
Informazione dettagliata
Luogo di origine
nantong, Jiangsu, porcellana
Marca
JC
Certificazione
MSDS, Rohs, REACH, ISO, GS, BV, Intertek
Numero di modello
ETCH-047
Specifica:
Φ420 × Φ380 × 8,0 mm
Materiale:
Quarzo fuso sintetico di elevata purezza
Tolleranza:
±0,01 mm
Trattamento superficiale:
Rettificato e lucidato a fuoco
Pulizia:
Pulizia chimica classe 100
Applicazione:
Camera di incisione al plasma secco CCP da 12 pollici
Evidenziare:
Synthetic Fused Quartz Ring
,12 Inch CCP Cover Ring
,Plasma Etching Quartz Ring
Descrizione di prodotto
This Ground Quartz Cover Ring is a high purity synthetic quartz plasma etching quartz ring built for 12 inch CCP dry plasma etching equipment. Positioned at the wafer perimeter, the ring confines the plasma sheath, shields the chamber edge and protects the wafer from edge erosion during long, high power etch steps. Because it is machined from synthetic fused quartz rather than natural quartz, the ring offers an exceptionally low level of metallic and hydroxyl contamination,
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