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Ground Quartz Cover Ring 12 Inch CCP Plasma Etching Quartz Ring for Dry Etch
| MOQ: | 30 cada ou negociável |
| Preço: | FOB Shanghai |
| standard packaging: | Saco de vedação de plástico limpo + caixa de papelão ondulado azul + caixa mestra |
| Delivery period: | 30-45 dias |
| Método do pagamento: | T/T,L/C,D/A,D/P |
| Supply Capacity: | 1000ea por mês |
Informações detalhadas
Lugar de origem
nantong, jiangsu, porcelana
Marca
JC
Certificação
MSDS, Rohs, REACH, ISO, GS, BV, Intertek
Número do modelo
ETCH-047
Especificação:
Φ420 × Φ380 × 8,0mm
Material:
Quartzo fundido sintético de alta pureza
Tolerância:
±0,01mm
Tratamento de superfície:
Chão e fogo polidos
Limpeza:
Limpeza química classe 100
Aplicativo:
Câmara de gravação de plasma seco CCP de 12 polegadas
Destacar:
Synthetic Fused Quartz Ring
,12 Inch CCP Cover Ring
,Plasma Etching Quartz Ring
Descrição do produto
This Ground Quartz Cover Ring is a high purity synthetic quartz plasma etching quartz ring built for 12 inch CCP dry plasma etching equipment. Positioned at the wafer perimeter, the ring confines the plasma sheath, shields the chamber edge and protects the wafer from edge erosion during long, high power etch steps. Because it is machined from synthetic fused quartz rather than natural quartz, the ring offers an exceptionally low level of metallic and hydroxyl contamination,
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