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Ground Quartz Cover Ring 12 Inch CCP Plasma Etching Quartz Ring for Dry Etch
| MOQ: | 30 Stück oder verhandelbar |
| Preis: | FOB Shanghai |
| Standard Packaging: | Sauberer Plastikversiegelungsbeutel + blauer Wellpappkarton + Umkarton |
| Delivery Period: | 30-45 Tage |
| Zahlungs-Methode: | T/T,L/C,D/A,D/P |
| Supply Capacity: | 1000ea pro Monat |
Ausführliche Information
Herkunftsort
Nantong, Jiangsu, Porzellan
Markenname
JC
Zertifizierung
MSDS, Rohs, REACH, ISO, GS, BV, Intertek
Modellnummer
ETCH-047
Spezifikation:
Φ420 × Φ380 × 8,0 mm
Material:
Hochreines synthetisches Quarzglas
Toleranz:
±0,01 mm
Oberflächenbehandlung:
Geschliffen und feuerpoliert
Reinigung:
Chemische Reinigung der Klasse 100
Anwendung:
12-Zoll-CCP-Trockenplasma-Ätzkammer
Hervorheben:
Synthetic Fused Quartz Ring
,12 Inch CCP Cover Ring
,Plasma Etching Quartz Ring
Produkt-Beschreibung
This Ground Quartz Cover Ring is a high purity synthetic quartz plasma etching quartz ring built for 12 inch CCP dry plasma etching equipment. Positioned at the wafer perimeter, the ring confines the plasma sheath, shields the chamber edge and protects the wafer from edge erosion during long, high power etch steps. Because it is machined from synthetic fused quartz rather than natural quartz, the ring offers an exceptionally low level of metallic and hydroxyl contamination,
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