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Ground Quartz Cover Ring 12 Inch CCP Plasma Etching Quartz Ring for Dry Etch
| MOQ: | 30 ea o negociable |
| Precio: | FOB Shanghai |
| Standard Packaging: | Bolsa de plástico limpia con sellado + caja corrugada azul + caja principal |
| Delivery Period: | 30-45 días |
| Forma De Pago: | T/T, L/C, D/A, D/P |
| Supply Capacity: | 1000ea por mes |
Información detallada
Lugar de origen
nantong, Jiangsu, China
Nombre de la marca
JC
Certificación
MSDS, Rohs, REACH, ISO, GS, BV, Intertek
Número de modelo
GRABADO-047
Especificación:
Φ420 × Φ380 × 8,0 mm
Material:
Cuarzo fundido sintético de alta pureza
Tolerancia:
±0,01mm
Tratamiento superficial:
Pulido a tierra y al fuego.
Limpieza:
Limpieza química clase 100
Solicitud:
Cámara de grabado por plasma seco CCP de 12 pulgadas
Resaltar:
Synthetic Fused Quartz Ring
,12 Inch CCP Cover Ring
,Plasma Etching Quartz Ring
Descripción de producto
This Ground Quartz Cover Ring is a high purity synthetic quartz plasma etching quartz ring built for 12 inch CCP dry plasma etching equipment. Positioned at the wafer perimeter, the ring confines the plasma sheath, shields the chamber edge and protects the wafer from edge erosion during long, high power etch steps. Because it is machined from synthetic fused quartz rather than natural quartz, the ring offers an exceptionally low level of metallic and hydroxyl contamination,
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