szczegółowe informacje o produktach
Produkty
Skontaktuj się z nami
|
Ground Quartz Cover Ring 12 Inch CCP Plasma Etching Quartz Ring for Dry Etch
| MOQ: | 30 szt. lub do negocjacji |
| Cena £: | FOB Shanghai |
| standard packaging: | Czysta plastikowa torebka zamykająca + niebieskie pudełko z tektury falistej + karton zbiorczy |
| Delivery period: | 30-45 dni |
| metoda płatności: | T/T, L/C, D/A, D/P |
| Supply Capacity: | 1000ea miesięcznie |
Szczegółowe informacje
Miejsce pochodzenia
Nantong, Jiangsu, Chiny
Nazwa handlowa
JC
Orzecznictwo
MSDS, Rohs, REACH, ISO, GS, BV, Intertek
Numer modelu
ETCH-047
Specyfikacja:
Φ420 × Φ380 × 8,0 mm
Tworzywo:
Wysokiej czystości syntetyczny topiony kwarc
Tolerancja:
±0,01 mm
Obróbka powierzchniowa:
Szlifowane i polerowane ogniowo
Czyszczenie:
Czyszczenie chemiczne klasy 100
Aplikacja:
12-calowa komora do trawienia suchego plazmowego CCP
Podkreślić:
Synthetic Fused Quartz Ring
,12 Inch CCP Cover Ring
,Plasma Etching Quartz Ring
Opis produktu
This Ground Quartz Cover Ring is a high purity synthetic quartz plasma etching quartz ring built for 12 inch CCP dry plasma etching equipment. Positioned at the wafer perimeter, the ring confines the plasma sheath, shields the chamber edge and protects the wafer from edge erosion during long, high power etch steps. Because it is machined from synthetic fused quartz rather than natural quartz, the ring offers an exceptionally low level of metallic and hydroxyl contamination,
Zalecane produkty
Rozmawiaj teraz.
Rozmawiaj teraz.
Rozmawiaj teraz.
